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(图)我室微纳加工平台实验室建成
作者: irglass 时间: 2019-02-28 浏览:1,093 次

    近日,我室微纳加工平台实验室正式建成。该实验室建设设备经费来源于中央支持地方高校改革发展资金,在14个月时间里完成了从市场调研、价格谈判、招标采购和安装调试好德国Raith公司eLINE Plus型多功能电子束曝光机、英国Oxrod Instruments公司PlasmaPro100 CobraP180型等离子刻蚀机和美国Kurt J. Lesker公司PVD75型磁控溅射系统三台进口微纳加工设备,总价值1150万人民币。

    德国Raith公司eLINE Plus型多功能电子束曝光机具有分辨率高、参数灵活可调、曝光速度快等优点,独有固定束移动工作台模式,无写场拼接误差,最小束斑直径≤1.6 nm,最小线宽≤ 8nm,拼接/套刻精度 ≤ 40 nm,适用于任意长路径波导、波带片、光子晶体等结构。

    英国Oxrod Instruments公司PlasmaPro100 CobraP180型等离子刻蚀机采用真空进样室可进行快速的晶片更换,配置激光干涉或光发射谱检测设备作为刻蚀终点检测装置,刻蚀速率快,稳定性高,均匀性<±5%,适用于硅基、金属膜等材料的刻蚀。

    美国Kurt J. Lesker公司PVD75型磁控溅射系统具有薄膜与衬底结合紧密,成分均匀,能够低温制备以及可沉积薄膜种类多等优点,溅射室极限真空度可达6.7×10-5Pa,样品台最高转速60 rpm,薄膜不均匀度<5%,可溅射制备高质量、纳米级的硫系玻璃薄膜及金属、氮化物、碳化物、半导体和多层膜等多种薄膜。

    微纳加工平台实验室的建成,将大力推动我室硫系光子器件领域研发工作的开展。本实验室设备对外开放,欢迎国内外科研机构前来进行相关合作研究。

联系人 沈老师,Email:shenxiang@nbu.edu.cn

等离子刻蚀机

 

磁控溅射系统

 

多功能电子束光刻机